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    天津市鎳鎧表面處理技術有限公司

    化學鍍鎳Electroless Nickel化學鍍鎳<產品展示<首頁

    高磷、全光亮、滿足ROHS、化學鍍鎳

    產品編號:Niccol-001高磷、全光亮、滿足ROHS、化學鍍鎳

    Niccol—001化學沉鎳工藝

    一、Niccol-001化學沉鎳工藝的特點如下:

    1. 有機穩定劑、光亮劑、絡合劑組合,無鉛Pb、鎘Cd、汞Hg、鉻Cr,鍍層滿足RoHS指令要求。

    2. 沉鎳鍍層含磷量高(9.5%~11.5%)、鍍層非晶態合金,孔隙率低,抗腐蝕能力強。

    3. 工藝范圍寬、操作簡單易于掌握,可以使鍍液得到長的工作壽命,大于8MTO。

    4. 三種濃縮液配合開缸和補加,控制溶液的方法簡單。

    5. 溶液工作溫度低(68°-72°),工人操作安全簡便;熱能損失少,節約電力加熱費用。

    6. 溶液雜質容忍度高,可以在操作的溫度下添加補充《添加劑A》、《還原劑C》濃縮液。

    7. 同時適用于滾鍍及掛鍍操作,滾鍍生產效率更高,更加節省人力。

    8. 對深孔、盲孔零件,鍍層厚度達到15微米,即能抵抗100小時以上的中性鹽霧試驗。

    9. 鎳銅磷三元合金鍍層,高磷全光亮,失重率遠遠低于高磷鍍層。


    二、鍍鎳工藝條件:

    鎳離子含量5.0-5.5克/升
    操作溫度68℃~72℃
    PH值4.6~5.2(使用氨水調節)
    沉積速率7~10微米/小時
    鍍液負載能力0.5~2.5平方分米/升
          

    三、生產使用設備:

    鍍槽 :聚丙烯(PP)材料制作,包覆保溫層,保證溶液溫度穩定、均勻,降低能耗。

    加熱器:聚四氟乙烯(PTFE)加熱管,加熱管在排布上應留有5mm以上的間隙,以避免溶液的局部過熱。

    滾鍍機:聚丙烯(PP)制作,滾鍍機轉速應可調,六角滾筒回轉速度要求小于4轉/分鐘。

     
    四、溶液開缸方法:

    1. 在清洗干凈的鍍槽中加入1/2溶液體積的純水或蒸餾水。

    2. 加入75mL/L的Niccol--001A添加劑(1/13.5溶液體積的A)

    3. 加入200mL/L的Niccol--001B絡合劑(1/5溶液體積的B)

    4. 加入45mL/L的Niccol--001C還原劑(1/22溶液體積的C)

    5. 用1:1氨水調整PH值至4.8~5.0

    6. 加純水或蒸餾水至規定體積后充分攪拌,加熱到68℃~70℃即可進行生產

     
    五、濃縮液補加方法:

    以滴定溶液含鎳離子量計算補加量:
         
    Niccol--001工藝參數鎳離子含量是5.5--6克/升,每提高1克/升的鎳離子含量,要添加14.3毫升/升的A添加劑同時加入同等份量的C還原劑。

     
    六、濃縮液種類:

    Niccol--001A添加劑   Niccol--001B絡合劑   Niccol--001C還原劑

    化學鍍鎳生產操作說明

    一、配制新的溶液:

    要配制化學鍍鎳生產新的溶液,首先需要計算鍍槽的容積,設定鍍槽容積V升,由此容積來計算鍍槽總共需要的化學鍍鎳原料濃縮液數量如下:

    需要Niccol-001A添加劑     0.075*V 升

    需要Niccol-001B絡合劑     0.2*V 升

    需要Niccol-001C還原劑     0.045*V 升

    然后在鍍槽中加入1/2容積的純水;

    首先       加入Niccol-001B絡合劑      0.2*V升   攪拌均勻;

    然后       加入 Niccol-001A添加劑     0.075*V 升   攪拌均勻;

    最后       加入Niccol-001C還原劑     0.045*V 升   攪拌均勻;

    用3.8—5.5的精密試紙測量溶液的PH值,額定PH值為4.8-5.2之間,如果PH值低于4.8的話,需要使用1:1稀釋后的氨水向上調整PH值,如果PH值高于5.5的話,需要使用10%以下的稀硫酸向下調整PH值。完成PH值驗證后,用純水補充液面至規定的位置,即可開始加熱并投入生產。

    二、生產過程:

    化學鍍鎳需要工作的鍍槽(需要雙層保溫)和溶液儲存的儲存槽(常規的加蓋子塑料槽),生產時候溶液轉入鍍槽進行正常生產,生產完成后,及時將溶液轉移到儲存槽,使溶液盡快冷卻,降低溶液的活性,蓋上蓋子減少溶液的蒸發,延長溶液的使用壽命。工件入槽后如果可以直接反應生成鍍層,則無需人為協助,生產正常進行;如果工件入槽后沒有反應(工件表面無氣泡生成),則必須人為干預,啟動化學鍍鎳的反應;干預的方法一:使用活性大的鋁絲、鋁條接觸啟動反應;干預的方法二:用直流電源施加鍍鎳電流,直接電力觸發啟動反應。一旦反應正常,啟動使用的條件即可盡快撤離,化學鍍鎳鍍層生成速度7-10微米/小時,鍍層厚度控制可以采用時間控制方法,該方法簡便易行,但是鍍層真是厚度與估算厚度偏差大;鍍層厚度還可以采用濃縮液消耗精確計算,每消耗Niccol-001A濃縮液10毫升,在1平方分米的工件上均勻產生10微米的鍍層,這個方法需要精確計算產品的表面積,取得的鍍層厚度準確。

    三、生產中溶液分析:

    在生產進行中,需要每20分鐘對溶液的PH值、濃度、溫度進行測量,溶液濃度測量方法如下:

    滴定:

    1.   用移液管準確量取鍍液10ml加入250ml錐形瓶中

    2.   加入50ml純水

    3.   加入5ml  1:1氨水,此時溶液呈藍色

    4.   加入0.2g紫尿酸銨指試劑,搖勻,此時溶液呈棕色

    5.   用0.1N(0.1mol/L) DETA標準溶液滴定,由棕色至紫色為終點

    6.   消耗EDTA標準溶液毫數=滴定前-滴定后

    試劑及標準溶液的配制方法:

    1.  0.1N的EDTA標準溶液:標準稱取37.2克EDTA二鈉鹽,溶解于600—700毫升純水里,用1升的容量瓶稀釋至1升,避光、密封存放備用。

    2.  1:1氨水:用量筒量取500ml的濃氨水,加入同等體積的純水,至1升,密封存放,備用。

    補加方法:

    以滴定溶液消耗的標準溶液量計算補加量:

    根據滴定時候消耗的標準EDTA標準溶液的量,查表1《溶液濃度、補加對照表》,得出對應的補加參數。


    溶液濃度、補加對照表

    鎳離子含量(g/L)EDTA消耗量(ml)添加A與C各ml
    5.2839.00
    5.2448.90.833*V
    5.1668.81.666*V
    5.1078.72.500*V
    5.0488.63.333*V
    4.9908.54.165*V
    4.9318.45.000*V
    V為鍍槽的生產溶液總體積





    根據之前的三的溶液測量結果要對溶液進行調整,保持溶液的參數在合理的控制范圍,調整溶液的濃度參照如上的表1,根據EDTA消耗量,查表1取得補加數據,根據計算得出A、C的補加量,測量、調整數據填寫記錄表2(如下):                  

    溶液調整、補加記錄表

    溶液的調整

    完成化學鍍鎳的生產后,應該盡快將化學鍍鎳溶液過濾、轉移到儲存槽,使得溶液盡快冷卻下來,降低溶液的活性,避免溶液的無謂消耗,可以適當按照合理的儲存蒸發量補加一些純水,這樣溫度會下降一個梯度。也可以將儲存槽的容積設計的大于生產槽,每次生產的時候,都有一部分冷的溶液不參與生產,當工作溶液回轉到儲存槽,冷熱溶液混合,溫度下降迅速,便于儲存,這時候需要認真關注蒸發量,及時用純水補充儲存槽的液位,避免濃度失調。

    022-83700100
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